? 高純氯化氫是集成電路生產(chǎn)中硅片蝕刻、鈍化、外延、氣相拋光、吸雜和潔凈處理等工藝的重要材料，也可用于金屬冶煉，光導通訊和科學研究等領域。隨著大規(guī)模集成電路的發(fā)展，對氯化氫純度的要求越來越高，除了應具有99.999%以上的純度，對其中雜質(zhì)的含量要求越來越苛刻，尤其要求嚴格限制碳氫化合物和碳氧化合物的含量，以防止硅片加工過程中C的形成。過去我國大多從美、日等國進口電子級氯化氫，但近年來，我國電子工業(yè)所需的化學氣體的研制，在技術上已有不少突破和發(fā)展。國內(nèi)也有單位已成功開發(fā)出相關的電子級氯化氫產(chǎn)品，但還遠不能滿足市場需求。